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サンゴバン社製CMPスラリー
切削液/研削液/スラリー添加剤/洗浄液各種
ClasSiC™
SiCウェハ用CMPスラリー
Clasic

Classic
サンゴバン社のナノアルミナ研磨材(CMP)を使用したClasSiC™CMPスラリーは、研磨レートと平坦化性能を大幅に向上させ、SiCウェーハ上で優れた表面仕上げを実現します。
  • 【特徴】 参考研磨レート>2μ/ hr
    参考面粗度:Ra<2.5Å
    TTV < 3μ 、Δ< 1μ
    LTV LTV <1.5μ 、Δ<0.5μ
    Warp< 20μ 、Δ< 1μ
    スクラッチおよび表面欠陥が極めて少ない
    Si終端面のエピレディ面を提供
    優れた安定性、洗浄性、酸化安定性
詳しくは、お問い合わせください。
製品詳細

GaiN 200™
GaN(ガリウムナイトライド・窒化ガリウム)
ウェハ用CMPスラリー
Gain

GaiN200
サンゴバン社GaiN CMPスラリーは、表面粗さを2A以下(AFMで測定)を実現することにより、ウェハ表面の傷やピッチングを完全に排除します。 高い研磨レートが特徴で、GaiN 200 CMPスラリーは一般的なスラリーよりも4倍速く研磨でき、その結果、表面へのダメージが少なくなります。
  • 【特徴】 優れた研磨レート
    傷やピットのない表面仕上げ Ra<2A
    安定した分散特性
    Ready-to-use スラリー
    ウェーハ表面全体にわたる均一な品質
    優れた安定性、洗浄性、酸化安定性
詳しくは、お問い合わせください。
製品詳細



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